產(chǎn)品介紹

1.鍍液容易控制，鍍層填平度極佳。
2.鍍層不易產(chǎn)生針孔，內(nèi)應(yīng)力低，富延展性。
3.電流密度范圍廣，填平性高至75%，達(dá)至光亮效果。
4.沉積速度特快，電鍍時(shí)間因而縮短。
5.鍍層電阻率低，故非常適合于對(duì)鍍層物理性能要求高的電機(jī)工業(yè)。
6.可應(yīng)用于各種不同類(lèi)型的基體金屬，鐵件、鋅合金件、塑料件等同樣適用。
7.雜質(zhì)容忍量高。

工藝參數(shù)

硫酸銅                         200-220g/L
硫酸                             70-150g/L
氯離子                          50-90g/L
Ultra  Make Up                 4-8mL/L
Ultra  A                        0.4-0.6 ml/L
Ultra  B                        0.4-0.6 ml/L
溫   度                            20-30℃
陰極電流密度                  1-6 A/dm²
陽(yáng)極電流密度                  0.5-2.5 A/dm²
陽(yáng)   極                   磷銅角（0.01-0.03%磷）
攪拌方法                    空氣及機(jī)械攪拌